Toshiba и NEC Electronics объединяют усилия для разработки 32-нм технологического процесса

Киев, 4 декабря 2007 – Компании Toshiba и NEC Electronics заключили соглашение о сотрудничестве в целях разработки 32-нанометровых LSI-микросхем. В 2006 году Toshiba и NEC Electronics уже работали вместе над 45-нм производственной технологией в исследовательском центре микроэлектроники компании Toshiba в Йокогаме.

Сегодня две корпорации расширяют грани своего сотрудничества в области микросхем нового поколения.

Этот альянс позволит усовершенствовать процесс разработки новой технологии, а также существенно уменьшит расходы обеих компаний.
Для увеличения производительности и снижения энергопотребления чипов, изготавливаемых по 32-нм техпроцессу, необходимы самые продвинутые технологии и существенные исследовательские ресурсы. Поэтому крупнейшие производители полупроводников Toshiba и NEC Electronics объединяют свои усилия для разработки микросхем нового поколения.
Разработки оригинальных производственных технологий будут обсуждаться компаниями отдельно.

Кроме того, Toshiba и NEC Electronics обсуждают возможность организации совместного производства. Решение о совместной производственной деятельности будет принято в 2008 году. Благодаря своему сотрудничеству Toshiba and NEC Electronics планируют повысить эффективность разработок 32-нм микросхем и рассчитывают, что появление столь конкурентоспособного продукта усилит их лидирующее положение на рынке полупроводников.

Опубликовано: 10 декабря 2007 г.

Ключевые слова: нет

Извините, комментариев пока нет